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精良設備

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  • 多弧離子鍍膜設備
  • 磁控濺射鍍膜設備
  • SKYVAC PlasArc? 650
    產品特點
    規格參數
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    1.新一代弧源設計,具有更高的靶材利用率及更好的液滴控制;

    2.刀具,微型刀具,刀粒,模具及零件涂層生產的理想選擇;

    3.可對產品進行涂前氮化處理;

    4.可同爐沉積最多4種不同成分靶材材料;

    5.更高的產能(每天4爐);

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    納晶真空涂層技術(東莞)有限公司

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